用途: 半導体露光装置のウェハ固定
特長:
- 高精度:平面度0.2μm、L/F0.05μm以下
- 形状制御:ウェハの形状に応じたチャック形状(凹凸制御)
- 吸着応答性:仕様に合わせた平面デザインのカスタマイズ
- 平面度の型の擬は計算方法を演じます: Yeedex(RSM)
セラミックスの部品
パーフロシール材フッ素ゴムリング
真空チャック
再生製品
セラミックス
クォーツその他の加工品
超硬合金製高精度薄刃
蛍光体プレート フォスセラ®